一、紫外光耐候試驗箱控制和保護系統(tǒng)：

1.  智能型觸摸屏溫控儀，控制精度±0.1℃；

2.  薄膜式 KEY BOARD按鍵；

3.  溫度控制均采用P . I . D ＋S . S . R，系統(tǒng)同頻道協(xié)調(diào)控制，可提高控制元件與界面使用之穩(wěn)定性及壽命；

4.  觸控式設(shè)定、數(shù)位及直接顯示；

5.  具有P . I . D 自動演算之功能，可減少人為設(shè)定時帶來之不便；

6.  光照和冷凝可獨立控制也可以交替循環(huán)控制；

7.  光照和冷凝的獨立控制時間和交替循環(huán)控制的時間可在一千小時內(nèi)任意設(shè)置；

8.  在運轉(zhuǎn)或設(shè)定中，如發(fā)生錯誤時，會提供警示迅號；

9.  法國“施耐德”電氣元器件；

二、紫外光耐候試驗箱溫度控制：  

    UV循環(huán)

     一級的光化學(xué)反應(yīng)對溫度變化并不敏感。然而，隨之而來的二級反應(yīng)的速度則和溫度變化緊密相關(guān)。一般來說，隨著溫度升高，反應(yīng)速度會加快。因此，在UV曝曬試驗過程中，溫度控制就顯得很重要，更重要的是要將加速試驗所采用的試驗溫度與材料在實際應(yīng)用中遭遇的高溫度相匹配。在設(shè)備中UV的溫度設(shè)置可以是從50℃到90℃中的任何一點，具體取決于光照度水平和室內(nèi)環(huán)境氣溫。設(shè)備的溫度調(diào)節(jié)是通過具有微電腦演算功能的控制器來指揮設(shè)備內(nèi)諸如空氣加熱器、水加熱器、等一系列系統(tǒng)來完成。

 三、紫外光耐候試驗箱濕氣循環(huán)：

   隨著溫度的提高，潮濕對材料的破壞力會急劇增加。因此在潮濕曝曬過程中，溫度控制是基本的要求。更進一步說，要產(chǎn)生加*果，就要求在潮濕曝曬過程中保持高溫環(huán)境。在設(shè)備中冷凝過程溫度設(shè)置可以是從40℃到80℃中的任何一點。

四、紫外光耐候試驗箱加熱系統(tǒng)：

1.采用U型鈦合金高速加溫電熱管；

2.溫度控制與光照*獨立系統(tǒng)；

3.溫度控制輸出功率均由微電腦演算，以達及率之用電效益；

4.具有加熱系統(tǒng)的防超溫功能；